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簡要描述：Eksma FEMTOLINE激光分束器-2Femtoline激光分束器鍍膜@ 1030 nm，800 nm，515 nm，400 nm，343 nm，266 nm。激光損傷閾值：> 100 mJ / cm2，50 fsec脈沖，典型值為800 nm。
產(chǎn)品品牌：Eksma廠商性質(zhì)：代理商更新時間：2021-03-17訪 問 量：859相關文章
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| 品牌 | Eksma | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Eksma FEMTOLINE激光分束器-2
Eksma FEMTOLINE激光分束器-2
Femtoline激光分束器鍍膜@ 1030 nm，800 nm，515 nm，400 nm，343 nm，266 nm。激光損傷閾值：> 100 mJ / cm2，50 fsec脈沖，典型值為800 nm。
分束器將平均偏振激光束分成彼此分開90°的兩束。
標準基板厚度為3mm。如果您需要更薄的基板，請從Precision Thin Round Windows中選擇。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學，工業(yè)，醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用，軍事和航空航天市場。
EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質(zhì)量控制設備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
產(chǎn)品型號
波長-515 nm
型號 | 材料 | 尺寸 | 波長 | 反射 | 透射 | 偏振 | AOI |
031-7520A | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 515 nm | 20±3% | 80±3% | Average | 45° |
031-7520P | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 515 nm | 20±3% | 80±3% | P-pol | 45° |
031-7520S | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 515 nm | 20±3% | 80±3% | S-pol | 45° |
031-7530A | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 515 nm | 30±3% | 70±3% | Average | 45° |
031-7530P | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 515 nm | 30±3% | 70±3% | P-pol | 45° |
031-7530S | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 515 nm | 30±3% | 70±3% | S-pol | 45° |
031-7550A | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 515 nm | 50±3% | 50±3% | Average | 45° |
031-7550P | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 515 nm | 50±3% | 50±3% | P-pol | 45° |
031-7550S | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 515 nm | 50±3% | 50±3% | S-pol | 45° |
031-7570A | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 515 nm | 70±3% | 30±3% | Average | 45° |
031-7570P | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 515 nm | 70±3% | 30±3% | P-pol | 45° |
031-7570S | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 515 nm | 70±3% | 30±3% | S-pol | 45° |
031-7580A | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 515 nm | 80±3% | 20±3% | Average | 45° |
031-7580P | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 515 nm | 80±3% | 20±3% | P-pol | 45° |
031-7580S | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 515 nm | 80±3% | 20±3% | S-pol | 45° |
032-7520A | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 515 nm | 20±3% | 80±3% | Average | 45° |
032-7520P | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 515 nm | 20±3% | 80±3% | P-pol | 45° |
032-7520S | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 515 nm | 20±3% | 80±3% | S-pol | 45° |
032-7530A | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 515 nm | 30±3% | 70±3% | Average | 45° |
032-7530P | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 515 nm | 30±3% | 70±3% | P-pol | 45° |
032-7530S | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 515 nm | 30±3% | 70±3% | S-pol | 45° |
032-7550A | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 515 nm | 50±3% | 50±3% | Average | 45° |
032-7550P | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 515 nm | 50±3% | 50±3% | P-pol | 45° |
032-7550S | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 515 nm | 50±3% | 50±3% | S-pol | 45° |
032-7570A | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 515 nm | 70±3% | 30±3% | Average | 45° |
032-7570P | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 515 nm | 70±3% | 30±3% | P-pol | 45° |
032-7570S | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 515 nm | 70±3% | 30±3% | S-pol | 45° |
032-7580A | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 515 nm | 80±3% | 20±3% | Average | 45° |
032-7580P | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 515 nm | 80±3% | 20±3% | P-pol | 45° |
032-7580S | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 515 nm | 80±3% | 20±3% | S-pol | 45° |
035-7520A | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 515 nm | 20±3% | 80±3% | Average | 45° |
035-7520P | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 515 nm | 20±3% | 80±3% | P-pol | 45° |
035-7520S | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 515 nm | 20±3% | 80±3% | S-pol | 45° |
035-7530A | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 515 nm | 30±3% | 70±3% | Average | 45° |
035-7530P | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 515 nm | 30±3% | 70±3% | P-pol | 45° |
035-7530S | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 515 nm | 30±3% | 70±3% | S-pol | 45° |
035-7550A | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 515 nm | 50±3% | 50±3% | Average | 45° |
035-7550P | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 515 nm | 50±3% | 50±3% | P-pol | 45° |
035-7550S | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 515 nm | 50±3% | 50±3% | S-pol | 45° |
035-7570A | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 515 nm | 70±3% | 30±3% | Average | 45° |
035-7570P | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 515 nm | 70±3% | 30±3% | P-pol | 45° |
035-7570S | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 515 nm | 70±3% | 30±3% | S-pol | 45° |
035-7580A | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 515 nm | 80±3% | 20±3% | Average | 45° |
035-7580P | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 515 nm | 80±3% | 20±3% | P-pol | 45° |
035-7580S | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 515 nm | 80±3% | 20±3% | S-pol | 45° |
基材
材料 | UV級熔融石英 |
S1表面平整度 | 633 nm時為λ/ 10 |
S1表面質(zhì)量 | 20-10表面光潔度（MIL-PRF-13830B） |
S2表面平整度 | 633 nm時為λ/ 10 |
S2表面質(zhì)量 | 20-10表面光潔度（MIL-PRF-13830B） |
直徑公差 | +0.00mm-0.12mm |
厚度公差 | ±0.25 |
平行性 | 30弧秒 |
倒角 | 在45°典型值為0.3mm |
鍍膜
技術 | 電子束多層電介質(zhì) |
附著力和耐久性 | 符合MIL-C-675A。 不溶于實驗室溶劑 |
通光孔徑 | 超過中心直徑的85％ |
入射角 | 45±3° |
背面防反射鍍膜 | R <0.5％ |
激光損傷閾值 | > 100 mJ / cm2，50 fsec脈沖，典型800 nm |
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學，工業(yè)，醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用，軍事和航空航天市場。
EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質(zhì)量控制設備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學，工業(yè)，醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用，軍事和航空航天市場。
EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質(zhì)量控制設備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
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