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簡要描述：Eksma FEMTOLINE薄型AR透鏡333-353 NM-4薄透鏡，具有333-353 nm范圍的防反射鍍膜。透鏡可以提供電子束（+ AR343）或IBS（+ AR343HT）鍍膜。
產(chǎn)品品牌：Eksma廠商性質(zhì)：代理商更新時間：2021-03-17訪 問 量：796相關(guān)文章
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| 品牌 | Eksma | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Eksma FEMTOLINE薄型AR透鏡333-353 NM-4
Eksma FEMTOLINE薄型AR透鏡333-353 NM-4
薄透鏡，具有333-353 nm范圍的防反射鍍膜。透鏡可以提供電子束（+ AR343）或IBS（+ AR343HT）鍍膜。
產(chǎn)品介紹
Ø防反射鍍膜的AR / AR @ 333-353 nm
Ø非常?。哼吘壓穸葟?.5到1.9mm不等
Ø中心厚度從1到3mm不等
Ø平凸或平凹類型
Ø也可以不加鍍膜或帶有不同的增透膜
Femtoline Thin AR在333-353 nm透鏡上鍍膜，適用于飛秒Ti：Sapphire激光脈沖的應(yīng)用。 所展示的透鏡可確保寬帶飛秒Ti：藍寶石激光脈沖的低群延遲色散。
產(chǎn)品型號
平凹透鏡（ø12.7 mm）
型號 | 材料 | 類型 | 直徑 | CT | ET | 焦距@ 800NM | 反射 |
112-1104ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 3.5 mm | -20 mm | R<0.5% |
112-1104ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 3.5 mm | -20 mm | R<0.2% |
112-1106ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 2.5 mm | -30 mm | R<0.5% |
112-1106ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 2.5 mm | -30 mm | R<0.2% |
112-1108ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 2.1 mm | -40 mm | R<0.5% |
112-1108ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 2.1 mm | -40 mm | R<0.2% |
112-1109ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 1.9 mm | -50 mm | R<0.5% |
112-1109ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 1.9 mm | -50 mm | R<0.2% |
112-1110ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 1.7 mm | -60 mm | R<0.5% |
112-1110ET+AR800HT | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 1.7 mm | -60 mm | R<0.2% |
112-1112ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 1.5 mm | -75 mm | R<0.5% |
112-1112ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 1.5 mm | -75 mm | R<0.2% |
112-1113ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 1.5 mm | -80 mm | R<0.5% |
112-1113ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 1.5 mm | -80 mm | R<0.2% |
112-1115ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 1.4 mm | -100 mm | R<0.5% |
112-1115ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 1.4 mm | -100 mm | R<0.2% |
112-1117ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 1.3 mm | -125 mm | R<0.5% |
112-1117ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 1.3 mm | -125 mm | R<0.2% |
112-1119ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 1.2 mm | -150 mm | R<0.5% |
112-1119ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 12.7 mm | 1.0 mm | 1.2 mm | -150 mm | R<0.2% |
平凹透鏡（ø25.4 mm）
型號 | 材料 | 類型 | 直徑 | CT | ET | 焦距@ 800NM | 反射 |
112-1205ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 5.4 mm | -50 mm | R<0.5% |
112-1205ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 5.4 mm | -50 mm | R<0.2% |
112-1209ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 4.0 mm | -75 mm | R<0.5% |
112-1209ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 4.0 mm | -75 mm | R<0.2% |
112-1211ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 3.3 mm | -100 mm | R<0.5% |
112-1211ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 3.3 mm | -100 mm | R<0.2% |
112-1215ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 3.0 mm | -125 mm | R<0.5% |
112-1215ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 3.0 mm | -125 mm | R<0.2% |
112-1217ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 2.7 mm | -150 mm | R<0.5% |
112-1217ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 2.7 mm | -150 mm | R<0.2% |
112-1219ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 2.4 mm | -200 mm | R<0.5% |
112-1219ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 2.4 mm | -200 mm | R<0.2% |
112-1221ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 2.3 mm | -250 mm | R<0.5% |
112-1221ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 2.3 mm | -250 mm | R<0.2% |
112-1223ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 2.1 mm | -300 mm | R<0.5% |
112-1223ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 2.1 mm | -300 mm | R<0.2% |
112-1233ET+AR343 | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 1.9 mm | -500 mm | R<0.5% |
112-1233ET+AR343HT | UVFS | pl/cv | 25.4 mm | 1.5 mm | 1.9 mm | -500 mm | R<0.2% |
材料 | UVFS | |||||||||
表面質(zhì)量 | 40-20表面光潔度 (MIL-PRF-13830B) | |||||||||
通光孔徑 | 90% of the diameter | |||||||||
直徑公差 | +0.00, -0.12 mm | |||||||||
厚度公差 | ±0.2 mm | |||||||||
表面不規(guī)則 | λ/8 | |||||||||
同心度 | 3 arcmin | |||||||||
近軸焦距 | ±2% @ 800 nm | |||||||||
鍍膜
技術(shù) | 電子束多層電介質(zhì) |
附著力和耐久性 | 符合MIL-C-675A。不溶于實驗室溶劑 |
通光孔徑 | 超過中心直徑的85％ |
損壞閾值 | 100 mJ / cm2、50 fsec脈沖，典型343 nm |
鍍膜表面平整度 | 通光孔徑下633 nm處的λ/ 10 |
入射角 | 0度 |
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學，工業(yè)，醫(yī)學和美學領(lǐng)域的不同激光和光子學應(yīng)用中使用，軍事和航空航天市場。
EKSMA光學拋光設(shè)備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學，工業(yè)，醫(yī)學和美學領(lǐng)域的不同激光和光子學應(yīng)用中使用，軍事和航空航天市場。
EKSMA光學拋光設(shè)備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
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