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Eksma ND:YAG激光脈沖的電動可變衰減器

簡要描述:Eksma ND:YAG激光脈沖的電動可變衰減器
該可變衰減器/分束器由直徑為50.8毫米的UV FS薄膜布魯斯特型偏振片組成,該偏振片反射s偏振光,同時透射p偏振光,并安裝在分束器安裝座840-0056-12和石英零階(光學(xué)接觸)中。半波片直徑25.4毫米(用于飛秒應(yīng)用)或零級空氣間隔半波片(用于高功率應(yīng)用),其放置在旋轉(zhuǎn)的偏振片支架840-0190-01中,并放置在入射的線性偏振激光束中。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時間:2021-03-19
  • 訪  問  量:962

詳細(xì)介紹

品牌Eksma價格區(qū)間面議
組件類別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma 飛秒級和ND:YAG激光脈沖的電動可變衰減器990-0072M


Eksma ND:YAG激光脈沖的電動可變衰減器

具有ø22 mm通光孔徑的電動可變衰減器,由薄膜偏振片,半波片和光機(jī)械組成,易于設(shè)置。波片的電動旋轉(zhuǎn)允許連續(xù)改變輸出光束的強(qiáng)度比。

產(chǎn)品介紹

Ø將激光束分為兩束手動調(diào)節(jié)的強(qiáng)度比,以68°角分開

Ø大動態(tài)范圍

Ø透射光束偏移?1毫米

Ø高光學(xué)損傷閾值

該可變衰減器/分束器由直徑為50.8毫米的UV FS薄膜布魯斯特型偏振片組成,該偏振片反射s偏振光,同時透射p偏振光,并安裝在分束器安裝座840-0056-12和石英零階(光學(xué)接觸)中。半波片直徑25.4毫米(用于飛秒應(yīng)用)或零級空氣間隔半波片(用于高功率應(yīng)用),其放置在旋轉(zhuǎn)的偏振片支架840-0190-01中,并放置在入射的線性偏振激光束中。

可以通過旋轉(zhuǎn)波片來連續(xù)改變那兩個分離且不同的偏振光束的強(qiáng)度比,而無需改變其他光束參數(shù)??梢栽诤軐挼膭討B(tài)范圍內(nèi)控制出射光束的強(qiáng)度或其強(qiáng)度比。可以選擇P偏振以獲得較大的透射率,或者當(dāng)透射光束發(fā)生較大衰減時可以反射高純度s偏振。

840-0056-12運動學(xué)安裝座允許將薄膜Brewster型偏振片的入射角(AOI)調(diào)整為±4.5°,并獲得較大的消光對比度。支架位于桿,桿支架和可移動基座820-0090上。

距桌面的光軸高度可以在78-88 mm的范圍內(nèi)調(diào)節(jié)。可以提供其他高度作為定制,以將標(biāo)準(zhǔn)桿和桿架更改為更高的高度。

Eksma ND:YAG激光脈沖的電動可變衰減器

產(chǎn)品型號

飛秒激光脈沖

型號

波長

損壞閾值

配置

990-0072-343M

343 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-343M+CP

343 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-400M

400 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-400M+CP

400 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-515M

515 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-515M+CP

515 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-800M

800 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-800M+CP

800 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-800BM

780-820 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-800BM+CP

780-820 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-1030M

1030 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-1030M+CP

1030 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-1030BM

1010-1050 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-1030BM+CP

1010-1050 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

大功率激光應(yīng)用

型號

波長

損壞閾值

配置

990-0072-266HM

266 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-266HM+CP

266 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-343HM

343 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-343HM+CP

343 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-400HM

400 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-400HM+CP

400 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-515HM

515 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-515HM+CP

515 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-800HM

800 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-800HM+CP

800 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-800HBM

780-820 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-800HBM+CP

780-820 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-1030HM

1030 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-1030HM+CP

1030 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-1030HBM

1010-1050 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-1030HBM+CP

1010-1050 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

 

旋轉(zhuǎn)分辨率:全步模式

在1/8步進(jìn)模式下


0.6 arcmin
4.5 arcsec

較高轉(zhuǎn)速

50 deg/s

適用于Nd:YAG激光應(yīng)用

通光孔徑

22 mm

損害閾值

>5 J/cm2
pulsed at 1064 nm, typical

偏振比

>1:200

飛秒應(yīng)用

通光孔徑

22 mm

損害閾值

大功率激光應(yīng)用:

>10 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical
>100 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical

時間分散

t<4 fs for 100 fs Ti:Sapphire laser pulses

偏振比

>1:200

 

推薦設(shè)置

控制器

980-1045

電源

PS12-2.5-4

上述控制器和電源已包含在衰減器套件中,其代碼結(jié)尾為“ + CP”。

 EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗集團(tuán)(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗集團(tuán)(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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